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鋁粉漿料濕法研磨分散機,納米鋁粉濕法粉碎機,納米研磨機,納米膠體磨
納米錫分散機是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應的物質(zhì)的混合過(guò)程。工業(yè)分散的目標是在連續相中實(shí)現“令人滿(mǎn)意的”精細分布。
□鋁漿作為一種漿料產(chǎn)品,其也主要由導電相(鋁粉)、無(wú)機粘結相(玻璃)、有機相(添加劑、載體)組成。
●鋁粉的影響:顆粒較小的鋁粉的比表面積較大,經(jīng)燒結后形成的電極表面致密、光潔。
●鋁漿中導電相的鋁粉選擇是苛刻的。因為鋁漿的主要性能可包括接觸電阻小,粘著(zhù)力強和老化系數低等,這些要求都受鋁粉性能直接影響,另外工藝性能的灰化、鋁珠等現象也與粒徑大小直接相關(guān)。
●鋁粉 尺寸分布區間大,則大小顆粒交錯排列,易于填充空間,使得導電相的排列緊密。并且鋁粉整體平均尺寸大,其體積相對較大。大體積鋁粉顆粒其表面氧化膜較薄,更易消除,形成導電網(wǎng)絡(luò )。
●因此鋁漿中使用的鋁粉應該選擇平均粒度大、含氧量低、尺寸分布區間大,粉體呈亞球形的鋁粉,其顆粒度應<9μm
●無(wú)機粘結相是一種超細玻璃粉,它是由可形成玻璃的各種氧化物經(jīng)高溫熔合,然后水淬細化得到。加入超細玻璃粉以后,可以明顯降低燒結峰值溫度,使金屬鋁粉在經(jīng)峰值溫度后行程過(guò)來(lái)嗎鋁膜,且形成的鋁膜表面光滑,不起灰,同時(shí)膜與硅片有較強的附著(zhù)力。
●在硅太陽(yáng)能電池用鋁漿中主要是玻璃粉影響鋁漿的膨脹系數,所以必須保證玻璃的膨脹系數與晶體硅的膨脹系數相匹配。
●有機載體包括有機高分子聚合物、有機溶劑、有機添加劑等等。它調節了漿料的流變性,固體粒子的浸潤性,金屬粉料的懸浮性和流動(dòng)性以及漿料整體的觸變性,決定了印刷質(zhì)量的優(yōu)劣。
產(chǎn)品相關(guān)參數配置,效果: 孫
為了實(shí)現互不相溶相的分散,必須強力粉碎并混合其粒子。粉碎意味著(zhù)必須克服表面張力的阻力來(lái)形成新表面。分散過(guò)程傳遞所需的能量,并保證兩相均質(zhì)混合。分散的長(cháng)期穩定性會(huì )受到確切粒度分布及乳化劑和穩定劑使用的影響。
SGN提供轉子-定子機械裝置來(lái)確保JI佳的分散效果、良好的清潔度和較長(cháng)運行壽命。憑借這幾項特點(diǎn)和易維護設計,轉子-定子機械裝置實(shí)現滿(mǎn)意的成本/售價(jià)比。
納米金屬分散機是
分層是分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續相中上浮或下沉的結果。在忽略布朗運動(dòng)效應的靜態(tài)條件下,可用Stokes 定律來(lái)描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定:
ρs -ρ為分散相與連續相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過(guò)減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續相液體分子大小時(shí),顆粒才能穩定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。
通過(guò)以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩定性,分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出,根據前人所做的大量研究發(fā)現,隨著(zhù)顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩兀怯捎陬w粒之間的間距減小,顆粒之間的結合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當顆粒直徑小于某一細小尺寸時(shí),此時(shí),顆粒的布朗運動(dòng)效應就不能忽略了,所以由于細小顆粒的布朗運動(dòng),而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩定劑,這些情況都會(huì )導致顆粒團聚,對體系的穩定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據物料的特性與特點(diǎn),減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個(gè)較窄的尺寸范圍,并達到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩定。
產(chǎn)品相關(guān)參數配置,效果: 孫
影響分散乳化結果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
納米金屬分散機是參數
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數據。
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